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2026/09/23 14:07 I 阅读:9
半导体芯片、晶圆及封装材料的表面洁净度与润湿性能,直接决定镀膜、键合、光刻等工艺成败。表面微小污染、处理不均,都会改变材料接触角,造成涂层脱落、封装失效,产品良率下降。传统简易接触角设备算法老旧,面对非轴对称液滴、微小样品测试误差大,难以满足半导体精密研发质控需求。蓝景动态接触角测试仪,搭载自研专利 Young-Laplace 算法,为半导体行业提供科研级表界面性能检测方案。
仪器依靠光学成像采集液滴图像,通过软件拟合轮廓,完成静态、动态接触角、表面能、表界面张力计算,可测定前进角、后退角、接触角滞后、滚动角等关键参数。自研改进 Young-Laplace 专利算法,精准处理非轴对称液滴,自动消除系统偏差,直接输出双侧接触角,还原材料真实润湿状态。配备 LED 冷光源、USB 高清工业相机与连续变倍远心镜头,最高 2592×1944 图像分辨率,30fps 高帧率成像,液滴图像低畸变,成像清晰稳定。



设备搭载双通道微量注射泵,滴液精度可达 0.01μl,三维自动位移样品台,软件精准控制定点测量;自带辅助测距、辅助对焦系统,有效规避撞针风险,提升操作效率。滴液通道配置全自动清洗系统,杜绝交叉污染,保障平行样重复性。支持连续自动滴液、自动测量、多点批量检测,减少人工操作带来的人为误差。铝合金高强度框架,机械稳定性强,长期使用依旧保持 ±0.1° 接触角测量精度,测量区间覆盖 0~180°。
内置多套拟合算法,圆法、椭圆、Young-Laplace 等多种拟合模型可选,可计算固体表面自由能、粘附功、铺展系数。海量存储空间可保存 10 万组图像与检测数据,支持 PDF、Excel 报告一键导出,中英文软件自由切换。仪器符合 JJF 2099-2024 光学接触角测量仪校准规范,配套多种角度标准校准片可选。半导体企业可用于晶圆、封装基板、光刻胶材料表面润湿性评估,检测等离子清洗、电晕处理后的表面效果,量化表面清洁度,优化工艺参数,提升芯片生产良率。
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